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光掩膜技術研發中心

       清溢一直奉行技術先導的發展政策,公司成立之初,國內制作大面積光掩模的技術和人才完全空白。在沒有任何外來技術援助的情況下,清溢科研人員在成立的第二年,就成功研制了國內首張大面積高精度鉻版掩膜版。經過十余年的自主創新和人才培養,形成了完全自主的核心技術和人才團隊。

 

        公司于2002年成立光掩模技術研究開發中心,并于2007年經深圳市科技和信息局批準成立依托于清溢的“深圳市光掩模技術研究開發中心”。

 

        目前,清溢研發中心,正以“激活內腦、用活外腦”為方針,走產、學、研相結合的道路,聯合國內外相關企業和科研機構開創新技術來源,通過不斷的自主科技創新,推動中國高精度大面積掩膜版制造行業趕超國際一流水平。

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